特集 2008年10月1日 40nm時代のIC設計アプローチ（関連情報）：「マスク修正なし」を実現するための方策とは？ [Mojy Chian（米Altera社）,Richard Cliff（米Altera社）,Jeff Watt（米Altera社），EDN] 記事を見る 記事を見る
