検索
ニュース

DUVレーザーに高出力品と波長193nm品を拡充、オキサイドウエハー検査向けシリーズ

オキサイドは、半導体検査向けのDUVレーザー「QCW Kalama」シリーズに、波長266nmの高出力モデル(標準8W、最大12W)と波長193nmモデルを追加した。ラインアップ拡充により、検査の高感度化や新分野への応用が可能になる。

Share
Tweet
LINE
Hatena

 オキサイドは2025年12月、半導体検査向けの深紫外(DUV)レーザー「QCW Kalama」シリーズに、波長266nmの高出力モデルと波長193nmのモデルを追加し、2026年より受注を開始すると発表した。ラインアップ拡充により、検査の高感度化や新分野への応用が可能になる。

266nm高出力モデル
266nm高出力モデル 出所:オキサイド

 QCW Kalamaシリーズは、半導体ウエハー検査向けに開発したDUVピコ秒パルスレーザーだ。ピコ秒とは1兆分の1秒で、ピコ秒レーザーはパルス幅が数ピコ秒〜数百ピコ秒のパルス光を繰り返し発振する。

 新たに追加した266nmモデルでは、出力が従来の3Wから標準8W、最大12Wに向上。基本波レーザーの高出力化と同社独自の高品質セシウムリチウムボレート(CLBO)結晶により、従来機と同等サイズで高出力を可能にした。

 繰り返し周波数は100MHzで、波長は266nm。半導体ウエハー検査の感度とスループットが向上し、検査時間の短縮に寄与する。

ArFリソグラフィ用フォトマスク検査対応の新モデル

 新波長の193nmモデルは、フッ化アルゴン(ArF)リソグラフィ用フォトマスク検査に対応する全固体DUVピコ秒レーザーだ。繰り返し周波数は50MHzで、平均出力は0.2W超になる。同社の波長変換技術と高品質CLBO結晶により、高出力かつ短波長化を達成。半導体ウエハー検査やフォトマスク検査に加え、医療分野、光学素子検査にも応用できる。

波長193nmモデル
波長193nmモデル 出所:オキサイド

Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.

ページトップに戻る