水銀ランプ同等の照度をLEDで ウシオ電機の一括投影露光装置：環境規制に対応しランニングコストも削減

ウシオ電機は、LED光源を搭載したウエハー向け一括投影露光装置「UX-44101SCB」「UX-45114SCB」を発表した。照度が従来の水銀ランプと同等レベルに達したとする。

[EDN Japan]

　ウシオ電機は2026年6月、LED光源を搭載したウエハー向け一括投影露光装置「UX-44101SCB」「UX-45114SCB」を発表した。いずれも同社の「UX-4シリーズ」に追加する新製品で、同年7月から受注を開始する。

ウエハー向け一括投影露光装置「UX-44101SCB」「UX-45114SCB」 出所：ウシオ電機

　UX-4シリーズは、主にパワー半導体やMEMS、通信／光電融合関連のデバイスなどの製造に用いる一括投影方式の露光装置である。近年、半導体産業では化学物質の使用や排出に関する環境規制の強化を背景に、露光装置光源のLED化が進んでいる。一方で、高い露光量が必要なレイヤーでは、照度不足による露光時間の延長が課題となっていた。

　両製品には、ウシオ電機が固体光源の設計技術を活用して開発したLED光源ユニットを搭載した。従来の水銀ランプと同等レベルの照度となっていて、高露光量を必要とするバンプ形成工程やウエハーレベルパッケージング（WLP）工程でも、高い生産性を維持できる。

　UX-44101SCBは4インチウエハーに対応し、露光エリアがφ100mm、照度が100mW/cm²。UX-45114SCBは6インチおよび8インチウエハー向けで、露光エリアがφ200mm、照度は40mW/cm²だ。解像力はそれぞれ2.0μm、2.8μmで、焦点深度はいずれも±10μmを確保した。

LED化でランニングコストを低減

　光源のLED化によって、露光時の瞬時点灯と消灯が可能になった。光源寿命の長期化にもつながり、装置導入後のランニングコストを大幅に削減できるとしている。

　同製品は一括投影方式を採用することで、生産性が120WPH以上に達した。深い焦点深度を生かし、3次元形状の表面や厚膜レジストへの露光にも対応できる。また、自動化機能として、EFEMやマスク自動搬送、SECSおよびGEMオンライン接続、AGV対応、コータやデベロッパとのインライン接続などのオプションも用意した。

　対応可能なウエハー材料は、シリコン（Si）、ガリウムヒ素（GaAs）、窒化ガリウム（GaN）、リン化ガリウム（GaP）、インジウムリン（InP）、炭化ケイ素（SiC）のほか、ガラス、サファイア、セラミックス、ニオブ酸リチウム（LN）、タンタル酸リチウム（LT）などだ。