10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか ―― 電子版2019年3月号：EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版

EE Times Japan×EDN Japan 統合電子版 2019年3月号を発行致しました。今回のCover Storyでは、立ち上げが遅れているIntelの10nmプロセスの原因を探る「10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか」です。その他、注目を集める「RISC-V」に関する記事やハンダを抜くためのアイデア工具を紹介する記事などを掲載しています。電子版は【無料】でダウンロードできますので、ぜひご覧ください。

[EE Times Japan/EDN Japan]

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2019年3月号の内容

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Cover Story

10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか

　Intelは2016年以降、今日に至るまで、10nmプロセスを立ち上げることができていない。一方で、配線ピッチは同等であるはずの、TSMCとSamsung Electronicsの7nmプロセスは計画通りに進んでいる。

　ではなぜ、Intelは10nmプロセスの立ち上げに苦戦しているのだろうか。

Tech Focus『RISC-V』

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