DICと子会社のトピックは、静電気による放電破壊を防止するフォトマスク「ESD障害対策クロムフォトマスク」を共同開発した。高精細、高精度のクロムマスクに、ESD障害を抑制するための特殊コーティングを施している。
DICと子会社のトピックは2020年1月、静電気による放電破壊を防止するフォトマスク「ESD(Electro Static Discharge)障害対策クロムフォトマスク」を共同開発したと発表した。トピックは、同製品を2020年3月から国内および東南アジア地域の電子部品、半導体市場に投入し、同年の売上高2億円を目指す。
フォトマスクの使用中に発生する静電気でパターン間に電位差が生じ、放電して破壊されることをESD障害という。露光工程に加えて、工程内でのハンドリング時や搬送時にも発生する。
今回開発されたESD障害対策クロムフォトマスクには、高精細、高精度のクロムマスクにESD障害を抑制するための特殊コーティングが施されており、デバイス製造工程での歩留まり向上とESD障害の防止を両立した。
さらに、特殊コーティングにより、クリーンルーム内での異物付着の防止や、付着した異物除去の容易化といった効果も得られるという。
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